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SCREEN Semiconductor Solutions和IBM Research将在美国纽约州奥尔巴尼市就先进逻辑工艺研究展开合作

2016/10/14 7:44:24  文章来源:文传商讯  作者:文传商讯
文章简介: 日本京都--(美国商业资讯)--SCREENSemiconductorSolutionsCo.,Ltd.(SCREEN)计划于今年在IBMResearch(IBM)奥尔巴尼纳米科技半导体研究中心安装本公司三组关键工具之中的第一组。SCREEN单晶圆清洗、激光退火和涂层

日本京都--(美国商业资讯)--SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN)计划于今年在IBM Research (IBM)奥尔巴尼纳米科技半导体研究中心安装本公司三组关键工具之中的第一组。SCREEN单晶圆清洗、激光退火和涂层/涂胶显影设备套件将为IBM的先进半导体技术研究提供支持,并为其位于纽约州奥尔巴尼市的EUV卓越中心的工具组件提供补充。

 

这份智能新闻稿包含多媒体内容。完整新闻稿可在以下网址查阅:http://www.businesswire.com/news/home/20161011005040/en/

 

IBM Research半导体团队副总裁Mukesh Khare表示:“IBM致力于积极研究议程,旨在实现半导体技术的突破。为了满足未来云计算和认知系统的需求,材料、工艺和器件结构方面的创新对加快技术研究至关重要。”

 

SCREEN Semiconductor Solutions总裁Tadahiro Suhara指出:“我们非常高兴IBM在研究先进逻辑半导体时选择了我们。对我们而言,这证明了公司的SCREEN设备、技术和资源在湿法清洗、热处理和涂层/涂胶显影等多个领域带给先进半导体工艺研发的价值。”

 

将为IBM安装的SCREEN三组设备中的第一组为Aquaspin SU-3200,该设备设计用于在包括7nm及以上的先进节点半导体制造领域开发高选择性、无残胶、无损伤湿法清洗工艺应用。IBM还将利用来自SCREEN位于法国的子公司Laser Systems and Solutions of Europe (LASSE)的LT-3100系统评估纳秒级紫外激光退火应用,包括熔浆活化和临界层再结晶。基于所取得的良好效果,我们预计IBM将集成DT-3000 DUO Track系统,利用UV卓越中心的光刻工具组件推动定向自组装(DSA)、旋涂式介电材料(SOD)和垫底层涂布等技术的发展。

 

这三组全新的SCREEN工具预计将在年底前交付给IBM Research位于纽约州立大学理工学院的纳米科学与工程学院(CNSE)之内的奥尔巴尼纳米科技洁净室。交付给IBM的这套300mm晶圆设备将拓展SCREEN在奥尔巴尼的影响力。

 

关于IBM Research

 

70余年来,依托遍布六大洲的13大实验室及逾3,000名研究人员,IBM Research一直定义着信息技术的未来。IBM Research的科学家们当中已诞生六位诺贝尔奖获得者、十位美国国家科技奖章获得者、五位美国国家科学奖章获得者、六位图灵奖获得者,并且有19位科学家进入美国国家科学院,19位科学家进入美国发明家名人堂。
有关IBM Research的更多详情,敬请访问:www.ibm.com/research。

 

关于SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.

 

SCREEN Semiconductor Solutions为 SCREEN Holdings集团旗下子公司,该公司从其前身Dainippon Screen继承了半导体设备业务。SCREEN是一家专业制造商,业务遍及晶圆清洗设备、光刻设备和热处理等各个领域,是半导体制造业全球前十大设备供应商之一。
更多详情,请访问www.screen.co.jp/eng/spe。

 

原文版本可在businesswire.com上查阅:http://www.businesswire.com/news/home/20161011005040/en/

 

免责声明:本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。

 

联系方式:

 

SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.
+81-75-417-2527
speinfo@screen.co.jp

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